从全能学霸到首席科学家 (首席设计师)

　　而接下来的离子束抛光，就是镜片加工的最后一步了。
　　将镜片安装完毕，然后就是发出离子束，对镜面表面发射出离子束，将表面的粗糙给直接冲平。
　　这是一个比较漫长的步骤，所需要的时间也很长，毕竟角度上一个不慎，就可能将表面给冲出一个大坑出来，所以基本上是发射一次，他们就要重新校准一次，这时候，抛光人员的经验就十分重要了。
　　经验越好，精度也就越高，然后再配合上仪器本身的校准精度，就能够实现越高的精度。
　　而光电所中，这方面经验最高的，自然也就是罗刚宪了，所以他便在旁边指挥着这几个研究人员操作离子抛光机。
　　旁边的电脑屏幕上，也浮现出了相关的图像。
　　“参数输入：离子束电压800V，电流84mA，加速电压负160V。瞄准点，23，12，61。”
　　“参数输入……”
　　随着罗刚宪每一次说出，研究人员就操作一次，每次加工后，屏幕图像上某一块，或者某一大块部分的色彩都会发生变化。
　　这便是因为离子束轰击后，让上面的精度发生了改变。
　　看着这些，林晓的脑海中开始思考起来。
　　过去这种超精明光学镜片的抛光精度，人的经验很重要。
　　蔡司公司就是如此，他们有着传承了几代的专业人才。
　　不过，他们的经验，终究不能离开科学知识的范畴。
　　必然有一种方法，能够将他们的经验也归类为一个公式中去。
　　林晓之前已经对这个问题思考了许久，现在看着他们的实际操作，再加上他脑海中那个光刻机镜片的资料，他的眼睛猛然一亮。
　　离子束轰击、化学键断裂、材料表面平坦化……
　　这些东西组合起来，无非就是一个物理过程，而只要他能够建立出一个完整解释这个物理过程体系的数学模型，根据这个数学模型，就能够对每次离子束轰击的过程进行矫正，然后直接取代人的经验，实现对镜片表面的精密加工！
　　想到这，他立马开口道。“罗院士，可以了。”
　　罗院士一愣，问道：“怎么了？”
　　“我大概知道该如何解决了。”林晓说道：“请你把你们的资料发给我我，我回去之后需要研究一下。”
　　听到林晓这么说，罗院士顿时露出了惊讶：“你有办法了？”
　　林晓笑道：“大概，只是几个数学公式的问题。”
　　“几个数学公式？”
　　“之后你会知道的。”林晓说道，“当然，大致要解释一下，我们只要知道镜片材料的各种性质，以及镜片表面粗糙度分布数据，还有离子抛光机的数据，然后将它们统计为几个公式，建立起一个数学模型，我们就能直接从精确的数字以及坐标上，计算我们的离子束轰击点。”
　　“然后，就能像我之前给你说的那样，将镜片的表面给敲平！就像……打地鼠。”
　　听到林晓这么说，罗刚宪虽然还是不知道他到底要怎么做，但此时此刻，他也只有说：“那就麻烦林教授了。”
　　林晓笑着点点头。
　　随后，他便带上了这些资料，离开了光电所，回到了上京，开始钻研起这个数学模型，到底要如何搭建。
　　就这样，时间很快过去。
　　……
　　就这样，半个月后。
　　“呼，总算完成了。”
　　燕北园的房子中，林晓看着草稿纸上的最终结果。
　　半个月的时间，对于这个问题来说不长也不短。
　　最关键的是，当他摸清了这个问题的关键点后，就并不是很难，即使它涉及到了超精密的领域，其中涉及到的变量更是多达上十个，但对于林晓来说，将这些变量给区分理清并不困难。
　　所以对他来说，这只是一个稍微有点复杂的物理问题而已。
　　尽管这个问题，对于离子束抛光技术来说，都有着极为重要的意义。
　　下一刻，林晓收到了来自系统的小惊喜。
　　“恭喜宿主为离子束抛光建立起了一个通用，获得200点物理学经验，100点数学经验，100点材料学经验，6.5真理点。”
　　“恭喜宿主，物理学提升至5级！”
　　下一刻，林晓便感觉头脑一热。
　　学科提升至5级，大脑开发度提升0.6％。
　　他的大脑开发度，正式来到了7.05％！


第240章 八月：产量提高2.6倍
　　“呼～”
　　脑海中缓了一会儿后，林晓便感觉自己的思维重新恢复了清晰。
　　这一次提高的大脑开发度还不到本来的十分之一，对他本身的负担并不大，只是稍微有一些头晕罢了，等了一会儿后，这种眩晕感便逐渐消退了。
　　此时此刻，他再次抬头看向周围的环境，便感到周围的一切仿佛都在他的把控之中，甚至他能够将整个房间直接建立成为了一个3D模型，然后放在自己的大脑中，并且甚至能够直接对这个模型进行改变。
　　此外，他甚至感觉自己现在能够轻松地对八位数数字进行质数分解。
　　同时，他感觉自己对于物理的理解似乎也更近了一步。
　　本来，他因为之前提出了多维场论，而从系统那里得到了一个【物理大师光环】，这个光环对他的加成还是很高的，这也是为什么他有自信对光刻机来动手。
　　而现在他物理学又提升到了5级，这让他更有信心将这个时间缩短了。
　　“甚至……EUV光刻机也不是什么问题，似乎X光刻机，也能行？”
　　林晓的脑海中忽然浮现出了这个想法。
　　X光刻机，指的便是用X光作为光源的光刻机。
　　X光的波长比极紫外光更短，能够更加容易地去生产先进制程芯片。
　　并且这种光刻机有一种优点，那就是它的光源是直接照射在芯片底上的。
　　这种曝光方式便叫做直写式。
　　而EUV光刻机的光源中，EUV光源是经过十几块镜片的各种折射，最后通过掩膜版上面的图案，以投影的方式在芯片上形成芯片的。
　　这也就是说，X光刻机不需要光掩膜版就能使用，同时它对透镜系统的要求很低，仅仅只对透镜表面光滑度有一点要求而已。
　　此外，EUV光源在经过十几次光学镜片的折射后，原有光源的能量也会大大遭到削弱，原来的100％，到最后能量可能只会剩下不到3％，这也是为什么对EUV光源的要求就是功率足够强，不然的话，华国也不可能在光源上实现不了突破，毕竟方法都知道，不可能造都造不出来。
　　而X光刻机就不同了，因为是直写式，不需要经过镜片折射，所以根本不用担心光源功率不足的问题，反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点，反倒会影响到最终的效果。
　　当然，X光优点很多，但同样也有缺点。
　　那就是相比较EUV光刻机来说，光刻效率比较低，在实现大规模生产上比较困难，这也是为什么X光刻机没有占据主流的原因，虽然到现在也仍然再用，不过并不是那么引起人们的关心。
　　不过，这个问题林晓自然是考虑到了，而他觉得X光刻机能搞，便是因为他刚才闪过的灵感，让他有了一个实现X光刻机大规模生产的方法。
　　那就是利用衍射效应。
　　X光是能通过晶体进行衍射的，并且一般来说，晶体结构基本上是利用X光衍射来测定的。
　　但是反过来说，如果选取合适的晶体材料作为透镜，然后利用衍射效应实现对X光的缩放，进而就能实现像EUV光刻机那样的生产效率，在加上X光那强大的能量，实现更加快速的生产效率，十分的轻松。
　　当然，其中就有一个困难的问题了，那就是这个合适的晶体是什么，此外，利用衍射效应实现对X光的控制，其中需要处理的数据十分庞大。
　　所以到现在虽然也有利用这种衍射效应去实现芯片制造的，但是基本上都仅限于一些特殊的图形，应用案例十分之少。
　　对于林晓来说，他也仅仅只是这么想一想。
　　虽然现在的他还有一点把握，但是要是他给外界的人说自己要搞X光刻机的话，恐怕他们华芯盟第二天就得退出个一大半。
　　不再多想，他重新将目光投入到眼前的数学模型中。
　　如今升级了的他，再次回顾起这个模型，心中忽然觉得，这个模型似乎还有些欠缺啊？
　　“唔……这个模型似乎还可以再优化一下。”
　　经过片刻的思考，他找到了可以优化的点。
　　“嗯，离子抛光机校准系统，还有一点可以优化。”
　　离子抛光机的校准系统受到本身精度的影响，当然，考虑到内部磁场的影响，离子束的轨道是会受到磁场干扰的，就像是粒子加速器也会受到磁场的各种干扰。
　　所以如果在校准系统中对磁场干扰误差进行更加精确的修正，或者说是利用磁场误差和离子抛光机自身精度误差的差值，同样也能实现更加精准的抛光。
　　想到这，林晓立马开始动手计算，而这一步，其实很容易，那就是根查法。
　　离子束抛光机，喷射等离子体，磁场误差影响……这些东西加起来，可不就能够用根查法来解决吗？