我体内有个黑洞 (明渐)

　　蒲伟才说道：“如同一个时钟，同时精确掌控2万滴锡滴的自由下落，以及4万次的击打，时间上，每秒内的误差，不得超过十亿分之一秒；距离上，每秒不能超过1纳米，并且还要设计一套‘偏差纠正’系统，只要误差累积过大，就会自动纠正，让系统长期稳定的运转下去。”
　　“目前我们正在全力攻克控制系统，纠偏系统稍稍靠后，但也安排了团队进行攻关。”
　　“当然如果从岛国进口的相关零件，很快能到我们手中，可能三个月内，我们就能实现击打频率突破2万次。”
　　岛国？
　　三个月？
　　卫明摇头笑了笑，道：“缺什么零件，就交给我吧，我给你们捣鼓出来。”
　　接着他连续捣鼓了三天时间。
　　激光频率控制器。
　　高灵敏距离感应器。
　　还有这个什么器，那个什么装置，以及卫明叫不出专业名称的东西。
　　三天内他一共搞了十几个。
　　然后让蒲伟才他们，把这些装置，塞入到控制系统中，以极高精度要求，组装到了一起。
　　再开启了试运行。
　　“释放锡滴，初始频率每秒1滴。”蒲伟才进行指挥说道。
　　“开始释放。”
　　“两次击打成功，摊平形状完美，激发效果完美！”
　　“增加释放频率。”
　　“每秒50次试验成功。”
　　“每秒500次试验成功！”
　　“每秒5150次试验成功！追平最高纪录。”操作员声音微颤的道。
　　“继续增加！往上加高一点！”
　　蒲伟才也开始激动了，这才第一次进行调试而已，居然就追平了上一套零件不断调试数百次创造的最高纪录？
　　“每秒5500次试验成功，创造新的纪录！”
　　“再加！”
　　每秒7000
　　每秒9000
　　每秒1万
　　……
　　一直加到每秒2万，满足使用频率要求。
　　所有人都被震惊到麻木，依然是取得成功！
　　“再加，再往上加！”
　　每秒3万
　　每秒4万
　　每秒4万5
　　每秒5万！
　　“锡滴释放频率达到上限，特么还是取得成功！”操作员毫无形象的狂喊。
　　“转化光强是额定光强的2.5倍！”
　　向广林眼睛通红的大吼：“这意味着这台光刻机处理晶元的效率，至少艾思迈EUV的两倍以上，我们一台，能顶他们两台！”
　　“你们别叫！”
　　蒲伟才高高挥起了手，目光盯着持续时间后的数据，极力压制情绪的说道：“看看每秒5万滴锡滴，每秒10万次击打的情况下，这个系统能稳定工作多长时间？你们别吵，你们的噪音，可能影响到它的发挥。”
　　所有人都安静了下来。
　　屏住了呼吸。
　　目光都死死盯上了持续时间。
　　5分钟
　　15分钟
　　第29分38秒
　　由于累积误差越来越大，没有纠偏系统进行纠正，整个系统终于自动停止了运行。
　　啪！
　　蒲伟才右拳用力轰击自己左掌，满脸涨红的说道：“3分钟就足够了，只要3分钟，就不用配套设计非常复杂的纠偏系统了，没想到它坚持了足足半个小时！我们只需设计一套非常简单的纠偏系统，就能让它长期稳定的工作了，整个系统的复杂度至少降低10%，为我们省下大量的时间！”
　　“太厉害了，太神奇了！”
　　作为项目负责人，他自己也大呼小叫：“光源问题彻底解决了，双工台现成就有，镜头完全能用，我们的EUV光刻机，完成度至少超过90%！”
　　“我们完全看到胜利的希望了！”
　　说着，他泪如坝崩，几欲捧面大哭一场。
　　坚持十几年了！这一次，他是真的看到希望了，就在他的面前，已然触手可及。
　　见他如此，跟他一个团队的其他成员，也都擦着眼角，发出呜呜的声音。
　　“还没真成功呢，眼泪不如留到庆功宴。”
　　一个略有些扫兴的声音传来。
　　却听卫明说道：“蒲博士，刚才你还一脸抗拒的样子，怀疑我打磨过的东西不能用，现在呢？信我说的话了吧，零件问题，对我公司不是个问题，你说的技术难点，感觉也不怎么难。”
　　“没错没错。”
　　蒲伟才连忙擦泪，露出一张童真笑脸：“卫总你说的没错，只要卫总出马，光刻机，没有任何什么难点，我相信在卫总的带领下，我们能解决一切技术问题！”
　　他这次是真心服了，眼里只有崇拜。
　　“没错，完全多亏了卫总。”
　　“卫总辛苦了，给卫总捶捶肩。”
　　“卫总的神级打磨，能创造工业上的奇迹！”
　　“卫总才是最大的功臣，感谢卫总。”
　　又一波马屁声覆盖而来。
　　这一次，蒲伟才不仅没有咳嗽制止，反而是里面拍的最厉害的那个。
　　当然，马屁听一小会就够，卫明让他们马上投入到工作中，继续寻找问题，解决问题，直到没有任何问题为止。


第九十五章 狂热
　　老板工作间。
　　一个又一个的零件被打磨了出来。
　　得心应手地操控着小黑，工业加工方面，卫明不断创造出精度的极限。
　　只要先制造出一批精确度达到0.1纳米的“尺子”。
　　再根据这些尺子，加工所需要的零件，建立一套可参考对照的精准体系。
　　如果出现累积误差，就手动修正一番，让整体的误差范围不会超过1纳米。
　　卫明甚至会亲自参与到耗费时间极多的“组装”过程中，利用小黑的扫描半径，其他操作手至少得半小时才能装好的一个零件，他3分钟内就能实现精确安装。
　　并修正了多处地方的安装误差。
　　整个系统的稳定性大大提高。
　　让12个精密的子系统，逐渐变成一个能进行精确联动的大系统。
　　接下来的半个月。
　　光刻机研发部，刷新一个又一个数据记录，每天都有爆发式的欢呼，从厂房里发出。
　　“锡滴释放频率每秒5万次，持续工作33分27秒。”
　　“每秒5万次，持续工作38分15秒！”
　　“每秒5万次，持续工作47分48秒！”
　　“每秒5万次，持续工作59分52秒……接近一个小时，光源系统磨合到完美程度，这是不可能被超越的一个极限！”
　　不过还有一个极限，不是不能突破。
　　“既然我们的光源系统稳定性这么高，索性，我们不做复杂麻烦的‘纠偏系统’算了！再往里加入一组光源，构成‘双光源系统’，光刻机正常使用情况下，只让一组光源进行工作，每次工作半个小时，另一组光源进入休息调整状态，半小时后接替工作，轮流换班，减少累积误差。”
　　“此外这台机器还有一个‘狂暴模式’，那就是让两套光源系统，同时投入工作，每秒10万粒的锡滴，20万次的击打，产生超过1250瓦能量强度的极紫外光，这个光强是艾思迈光刻机250瓦的5倍之高，比普通DUV光刻能量也强悍的多。”
　　“狂暴模式下，这台光刻机每小时至少能处理600片以上的晶圆，艾思迈他们只能处理125片，我们的效率高出四五倍！”
　　“而且能量密度越高，光刻出的清晰度、锐利度也越高，这能显著提高芯片的质量和良率，减少多重曝光次数，更容易实现3纳米芯片的制造，帮助我们从开始的7纳米，越过中间的5纳米，快速过渡到最新的3纳米，实现跳跃式的发展！”
　　“让我国的芯片制程工艺，最短时间内追赶上海外最先进水平！”
　　蒲伟才的技术团队中，一位名叫罗聪的研究员，提出了一个叫“狂暴模式”的构想。
　　他这个构想的天才之处，一方面彻底砍掉了“纠偏系统”这个大麻烦。
　　另一个，“狂暴模式”的种种优势之处，又令人呼吸加重，眼里射出精光。
　　当然，“狂暴模式”也有缺陷，那就是对散热系统提出了更高的要求，五倍的能量强度，意味着要散去五倍以上的热量。
　　蒲伟才简单计算一番就得出结果：为防止系统过热，狂暴模式最多只能持续3~5分钟，除非每秒钟用掉1万升以上的冷却水，才可能延长些许持续时间。
　　但就算如此，这个模式依然有巨大的实用价值。
　　所以包括蒲伟才在内，都支持加入这个模式，再增强系统散热能力，让“狂暴模式”至少能持续10分钟左右。
　　于是又接下来的半个月。
　　工厂内的大多数工程师，都围绕着“双光源系统”、“狂暴模式”、“加强散热”而疯狂忙碌着。
　　为了加快进度，所有人都主动提出了加班的请求，要求延长工作时间，哪怕没有加班费。
　　更有不少人买来了睡袋，累了就躺进去休息几个小时，连续数天才洗一个大澡。
　　他们的精神状态。
　　眼神里流露出的情绪。
　　除了激动、亢奋，也逐渐多了一种狂热。
　　看到某种希望的超强狂热。
　　……
　　这天下午。
　　厂房内又传来一波几乎能震翻屋顶的欢呼！
　　仓库这边。
　　胸前挂着一张蓝色员工牌，穿了一身制服，俏生生坐在库房门口，负责出库/入库登记工作，一看就十分面嫩的王心然，有些惊讶的看了看厂房那边。